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这几天网上又把尹志尧的5nm 技术 (还没真用于生产)翻出来抄, 包括倍可亲。小编梦故意或不懂， 混淆刻蚀和光刻， 搞得好像天朝已经解决了芯的问题。世界又吓尿了。暂且假设报道一切都是真的,该技术已用于大规模工业生产（尹志尧自己说还得五年才能商业化）, 中国的芯也不能一步登天。不能浮躁,得踏踏实实做长久的努力。这是我为什么写 了<<一个海归牛人是改变不了高科技状态的>>。写作本文丝毫没有对尹先生成就不敬的意思。
网友"看风景的蜗牛君" 在去年九月的评论很好的解释了这个技术. 在此分享:
"很多人看到新闻说可以刻蚀到5nm，就以为国内掌握了5nm芯片制造工艺，超出英特尔等巨头了，这是个极大的误解。之所以会产生这种误解，是因为大家对芯片制造工艺完全不了解，各个步骤分不清。简单地来说，刻蚀是芯片制造中的重要一环，但更重要的一环叫做光刻。
要制成一个芯片，首先要通过光刻机将设计的集成电路“缩印”到光刻胶上，这个过程往往需要进行多次，这也是整个芯片制造流程中最最重要的一环，所谓的7nm啊之类的都是指这个步骤中光刻图形的最小特征尺寸。中国现在最为缺乏的就是这个最最核心的环节，离世界一流水平还有相当大的差距。
而将集成电路缩印到光刻胶之后，经历一系列步骤，才会进行刻蚀的环节。等离子体刻蚀机属于干法刻蚀的一种，即不会使用化学溶液，而是将气体电离形成等离子体，利用电场加速后，利用等离子体对表面进行刻蚀的工艺。
理清楚了这个关系，再回来看这个问题。这项技术的高水平是毋庸置疑的，即便在世界范围内也是一流的，尹志尧先生发展的这项技术对国内半导体工业的贡献是巨大的。同时也要分辨清楚，5nm刻蚀与5nm光刻不是一回事，更不意味着可以做出5nm芯片。我们在芯片领域还有很长的路要走，千万不要盲目自大。"