中国夸言自制先进光刻机 网民酸：满纸屁话
来源：倍可亲(backchina.com)
荷兰光刻机大厂艾斯摩尔（ASML）因遭美国压力，已停止向中国供货。中国媒体夸称要自制先进的光刻机，但遭中国网民打脸。图为ASML台湾(专题)极紫外光刻机（EUV）训练中心开幕的剪綵仪式。（路透）
中国搜寻网站搜狐日前发表"荷兰ASML总裁：中国永远造不出价值1.2亿美元的光刻机，期待被打脸"一文，指中国已将光刻机国产化，在光刻机领域已经有所突破，未来一定可以制造出先进的光刻机。但这篇文章出炉后反遭中国网民打脸，批评该文是"满纸屁话"。
光刻机是用来制造晶片的大型机器，可将设计好的电路图搬到硅晶片上，全球只有少数几家企业能够生产。而极紫外光刻机（EUV）主要用于生产7奈米及更先进制程的晶片，目前全球只有荷兰大厂ASML（艾司摩尔）有能力生产。由于美国对华为(专题)等中国业者祭出出口管制，ASML遭到美国的压力，已停止向中国晶片业者供货，若买不到EUV，中国晶片制造厂在相当长时间内将只能停留在12或14奈米制程。
搜狐的文章指出，高端的光刻机号称世界上最精密的仪器之一，所以制造难度相当大，这一点从1台光刻机能够卖到1.2亿美元的天价，就能看得出来。ASML在光刻机的技术上最顶级，早已经突破了5奈米的工艺制程，日本(专题)的佳能和尼康公司分别止步于90奈米和14奈米的工艺技术，凸显ASML已垄断此一技术
文章说，ASML总裁兼执行长温尼克（Peter Wennink ）今年稍早曾表示，"像EUV这样的世界级顶尖的技术，中国是永远不可能模仿出来的"，很多人因此认为，中国想要光刻机只能花天价从荷兰进口。但中国其实已将光刻机国产化，上海紫光电子在光刻机领域，已突破了22奈米的紫外线工艺技术，尽管与ASML的技术还相差甚远，但在一定程度上扭转了中国被卡脖子的不利地位。
文章说，尽管在光刻机技术上中国还存在很多不足，但是在中国国家政策的支持下，再加上中国科研工作者的坚持努力，不久的将来中国一定可以造出自己的先进光刻机，不亚于世界上一流的水准，且这一天不会太久。
但该文刊出后立刻遭中国网民打脸，指该文作者"连话都说不明白，就别吹了，我们落到今天这种状况，媒体要负很大的责任"；有网民则说，"没错，天天喊厉害了我的国，其实我的国没那么厉害，在高精尖技术方面还狠落后，别厉害了，还是韬光养晦做好自己的事，吹牛吹出来科技现代化"；也有网友说，"直接挖台积电的骨干力量，直接1亿年薪，即使没挖到，也让台积电难受 "；甚至有网民批评该文是"满纸屁话"。
