终结ASML独霸 这美企将以独特技术掀晶片巨大变革
来源：倍可亲(backchina.com)美国晶片产业似乎正在经历一场「巨大的」变革，而一家名为Substrate的新创公司也决定进军曝光机领域，该领域目前由荷兰艾斯摩尔（ASML）佔据主导地位。
在晶片曝光设备领域，美国完全依赖ASML等公司，因为美国缺乏能够与这家荷兰晶片制造商匹敌的本土技术。然而，彭博的一份最新报告显示，名为「Substrate」的新创公司计划打破美国晶片制造商对ASML的依赖。该公司计划研发能够与ASML的EUV曝光机相媲美的设备，但与使用传统极紫外光不同，Substrate计划利用粒子加速器产生的短波长X射线。
Substrate计划为美国提供一种替代EUV曝光技术的国内方案，该方案采用X射线而非EUV（极紫外光），该公司已筹集了1亿美元资金，投资者包括彼得·蒂尔的Founders Fund，仅凭其先进设备工具的概念，估值就达到了10亿美元。
Substrate公司声称，其独特的技术能够降低使用ASML EUV设备的成本。该公司已向媒体展示了这项技术，专家们称讚其是一项令人瞩目的创新。
Substrate计画利用波长比13.5奈米EUV更短的X射线，以达到更稳定的多重曝光。这家新创公司声称，透过采用稳健的光罩/光阻流程，他们已成功大幅降低了晶片曝光成本。
