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我也设想过用旧电视显像的扫描原理来代替光刻机上的EUV．以电子束代替光束．特殊的电子刻胶代替目前的光刻胶．可惜，我不搞这行的．没有研究所实验室无法实现．
目前，电子束光刻是不需要光刻掩膜版，想刻出什么图形，在人机界面用类似于EDA画图的方式直接输入。刻蚀的精度非常高，普通科研机构用的，完成纳米级工艺毫无难度。
但是，如果要用e-beam lithography来做量产，这就涉及到一个很严重的问题：产量 （throughput）。换句话，e-beam Lithography虽然精度高，但是实在是太慢了。传统的光刻好比照相，光打到光刻掩膜版上只是几秒时间甚至更短．所以，生产快，产量大．通过光学系统，光学掩膜版上的图形就整体成像到硅晶圆，显影之后在电子显微镜下就能看到。但是.....e-beam是用好比手工作画，把图形一点点的用电子束‘刻' 出来。因此，生产速度慢．产能低．
不过，如果能研究出电子胶，也可以用掩膜版来电子扫描曝光．如同旧电视的电子扫描．这样量产的速度就会提高了．根据正负电子湮灭成光子的原理，可以用正电子扫描，负电子做成电子胶．或其它的特殊材料做成电子胶．这会完全颠覆了目前的光刻技术．