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我也设想过用旧电视显像的扫描原理来代替光刻机上的EUV.以电子束代替光束.特殊的电子刻胶代替目前的光刻胶.可惜,我不搞这行的.没有研究所实验室无法实现.
目前,电子束光刻是不需要光刻掩膜版,想刻出什么图形,在人机界面用类似于EDA画图的方式直接输入。刻蚀的精度非常高,普通科研机构用的,完成纳米级工艺毫无难度。
但是,如果要用e-beam lithography来做量产,这就涉及到一个很严重的问题:产量 (throughput)。换句话,e-beam Lithography虽然精度高,但是实在是太慢了。传统的光刻好比照相,光打到光刻掩膜版上只是几秒时间甚至更短.所以,生产快,产量大.通过光学系统,光学掩膜版上的图形就整体成像到硅晶圆,显影之后在电子显微镜下就能看到。但是.....e-beam是用好比手工作画,把图形一点点的用电子束‘刻' 出来。因此,生产速度慢.产能低.
不过,如果能研究出电子胶,也可以用掩膜版来电子扫描曝光.如同旧电视的电子扫描.这样量产的速度就会提高了.根据正负电子湮灭成光子的原理,可以用正电子扫描,负电子做成电子胶.或其它的特殊材料做成电子胶.这会完全颠覆了目前的光刻技术.