尹志尧的5nm 技术___<<一个海归牛人是改变不了高科技状态的>> 补充

作者:Haiwaihuarenml  于 2018-5-1 00:30 发表于 最热闹的华人社交网络--贝壳村

作者分类:随想|通用分类:热点杂谈|已有1评论

这几天网上又把尹志尧的5nm 技术 (还没真用于生产)翻出来抄, 包括倍可亲。小编梦故意或不懂, 混淆刻蚀和光刻, 搞得好像天朝已经解决了芯的问题。世界又吓尿了。暂且假设报道一切都是真的,该技术已用于大规模工业生产(尹志尧自己说还得五年才能商业化), 中国的芯也不能一步登天。不能浮躁,得踏踏实实做长久的努力。这是我为什么写 了<<一个海归牛人是改变不了高科技状态的>>。写作本文丝毫没有对尹先生成就不敬的意思。

 网友"看风景的蜗牛君" 在去年九月的评论很好的解释了这个技术.  在此分享:

"很多人看到新闻说可以刻蚀到5nm,就以为国内掌握了5nm芯片制造工艺,超出英特尔等巨头了,这是个极大的误解。之所以会产生这种误解,是因为大家对芯片制造工艺完全不了解,各个步骤分不清。简单地来说,刻蚀是芯片制造中的重要一环,但更重要的一环叫做光刻。

要制成一个芯片,首先要通过光刻机将设计的集成电路“缩印”到光刻胶上,这个过程往往需要进行多次,这也是整个芯片制造流程中最最重要的一环,所谓的7nm啊之类的都是指这个步骤中光刻图形的最小特征尺寸。中国现在最为缺乏的就是这个最最核心的环节,离世界一流水平还有相当大的差距。

而将集成电路缩印到光刻胶之后,经历一系列步骤,才会进行刻蚀的环节。等离子体刻蚀机属于干法刻蚀的一种,即不会使用化学溶液,而是将气体电离形成等离子体,利用电场加速后,利用等离子体对表面进行刻蚀的工艺。

理清楚了这个关系,再回来看这个问题。这项技术的高水平是毋庸置疑的,即便在世界范围内也是一流的,尹志尧先生发展的这项技术对国内半导体工业的贡献是巨大的。同时也要分辨清楚,5nm刻蚀与5nm光刻不是一回事,更不意味着可以做出5nm芯片。我们在芯片领域还有很长的路要走,千万不要盲目自大。"


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发表评论 评论 (1 个评论)

4 回复 异域堂 2018-5-1 10:26
芯片的基底是单晶硅片,中国的单晶硅纯度不过关,还奢谈什么纳米刻蚀。

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