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新闻评论：EUV光刻材料取得突破 清华团队开发新型光阻剂

已有(6)人发表了评论
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2 回复 举报 [ 7楼 游客 (67.87.x.x) ] 发表于 2025-7-28 01:57
6楼 游客(97.70.x.x): 中国有任何成就，都会有一些狗子，先去替他美爹不爽！你妈拉个逼...
关键是你们没有啥成就。不是偷美国的技术，就是压榨农民工做苦工。没有像样的玩意。要不就是你们这些粉红
1 回复 举报 [ 6楼 游客 (97.70.x.x) ] 发表于 2025-7-27 22:29
中国有任何成就，都会有一些狗子，先去替他美爹不爽！你妈拉个逼。
回复 举报 [ 5楼 游客 (98.114.x.x) ] 发表于 2025-7-27 19:10
先说说， 批了多少钱？ 你懂的。。。。
回复 举报 [ 4楼 游客 (104.28.x.x) ] 发表于 2025-7-27 18:31
“有望推动”？这不就是先吹个大泡泡把钱骗到手吗？
1 回复 举报 [ 3楼 游客 (172.116.x.x) ] 发表于 2025-7-27 11:31
中国的高级电脑研究成果怎么没消息了？有人知道什么情况吗？
5 回复 举报 [ 2楼 游客 (23.243.x.x) ] 发表于 2025-7-27 10:59
为下一代EUV光阻剂提供清晰可行的开发路径等于现在没有发展成功，五毛又在忽悠经费了。

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