中芯被指抄袭台积电 出产高阶芯片突破美国制裁？
来源：倍可亲(backchina.com)根据行业观察机构(TechInsights)发现，中芯正在交付使用7纳米技术制造的比特币挖矿芯片，该机构拆解芯片后的初期影像显示，几乎抄袭台积电7纳米制程。此前，台积电已两度提告中芯抄袭。 中国最大半导体公司中芯国际是否已经突破美国制裁、掌握7纳米先进制程技术了呢？
行业观察机构(TechInsights)指出，受到制裁的影响，中芯尽管无法获得最先进的设备技术，但是，他们从矿机公司MinerVa旗下产品的SoC当中，发现中芯的7纳米制程技术，这款产品从2021年7月起就开始出货。“最初的图像表明，它是台积电7纳米制程技术的近似复制。这是在台积电过去两次起诉，中芯国际抄袭其技术后具说服力的发现。”行业观察机构发现。
“半导体史没看过这么厉害的！”科技新报专栏作家、东吴大学企管系讲师林修民接受本台访问下了这样的注解。
林修民解释，中芯从14纳米制程，跳过12、10纳米，直接进入7纳米制程。这就像老师改考卷，学生没有推演过程，就直接写答案，答案还跟隔壁有写推演过程同学一模一样，当然会让人怀疑是“抄袭”。
中芯国际突破制裁，被发现已交付使用7纳米芯片。截图自TechInsights)
“这跳一倍，我印象中没看过。你本来是14纳米，直接跳到7纳米，中间到底发生什么事没人知道，就横空出世一个7纳米，造出来的产品这么像。”林修民说。
台积电曾在2002年和2006年两度提告中芯抄袭技术，双方在2009年达成和解。如今再次爆出抄袭风波。在马英九执政时期，曾连署反对开放中国紫光集团来台的成大电机系教授李忠宪对本台表示，“没有用，因为这个国家(中国)行事风格、法律制度，法治不是很理想情况。官司在中国打得赢吗？这是很大的疑问。出货到中国以外地方缓不济急。”
中芯突破EUV制裁限制 不计成本生产出7纳米芯片
据《Tom’s Hardware》报导，中芯受到美国政府的严厉制裁，限制了其获得先进的极紫外光曝光微影系统(EUV)芯片制造工具。然而，中芯显然可以使用其现有的工具来生产7纳米的芯片（也可能更小），尽管经济效益和产量不那么理想。报道称，“这些成本因素对中国来说几乎不是一个问题，因为它通过开发自己的本土生产的芯片供应，寻求从西方国家的技术独立。”
林修民指出，晶圆代工厂使用EUV原因在于，很深的进阶制程可以省成本，不用曝光那么多次。如果中芯不用EUV做7纳米或以下的制程，成本十分昂贵，甚至高到不划算，同时也会影响良率。
他认为最大的目的在于，“对中芯而言，他要做第一代不会有问题，因为他是肩负国家使命、肩负中国共产党不要被美国卡脖子，或是配合党中央政策，可以不计成本弄出一个7纳米产品。在商言商，成本高到没有可行性。”
中芯国际官网先进制程介绍仍停留在14纳米。(截图自中芯国际官网)
林修民注意到，中芯对于制程“倍增”的跃进显得格外地低调，不仅是官网、任何官方文件 也没有 提到7纳米，连外资多次追问，中芯也都三缄其口。这次Techinsights在公开市场上购买的Minerva比特币挖矿芯片，中芯的7纳米才得以曝光，目前市场上几乎不见任何IC设计大厂下单。林修民预测，“没有经过市场大量出货的验证，距离真正的商业可靠度还有段距离。”
禁EUV后 美国盼说服荷兰禁止DUV出口中国
对于中芯这一惊人进步，彭博提出对美国出口管制机制的有效性产生怀疑，也对华盛顿是否真能挫败中国打造国产世界级芯片产业，并减少对外国技术依赖的雄心产生疑问。
此前，美国已考虑进一步收紧管制规则。彭博日前引述知情人士说法，美国政府欲说服荷兰政府，禁止出售成熟制程用深紫外光曝光微影系统 (DUV)到中国。DUV系统虽然技术层次无法与EUV相比，但仍是生产汽车、手机、电脑甚至机器人晶片最常用的设备。
此外，美国参议院20日的初步投票中，以64票对34票通过了520亿美元芯片法案，法案中有一项规定，明确要求获得美国“芯片法案”补贴的半导体企业，“在未来十年内禁止在中国新建或扩建先进制程的半导体工厂。”
对于美国行政和立法部门积极推动和遏制中国半导体崛起，李忠宪提出他的观察指出，“中国发现全世界的破口，从台湾这里挖人最快，美国比较没那么容易让他得逞。”对于这个存在已久的问题，他呼吁台湾政府与国安单位要有完整的配套措施。“蔡英文已经执政6年多，理论上，她应该对这些事有些强势作为，这跟国家安全有关。”李忠宪说。
