中芯工程师自诉：中国国产DUV遭大量投诉
来源：倍可亲(backchina.com)今年7月传出，晶圆代工龙头中芯国际已经量产7纳米芯片并出货给客户，代表大陆芯片业技术有突破性发展，这也触动美国的敏感神经，接连扩大制裁范围，双方交锋越演越烈。如今，有专家爆料，中芯的工程师自诉，大陆国产的DUV机台的效率并不好，甚至接到很多投诉电话，在机台方面仍需要仰赖外国技术。
具体投诉哪些问题有待确认，良率问题？还是光刻机知识产权问题？芯榜将继续跟踪报道。
光刻机根据光源的不同，大致分为四大类，制程从低到高分别是g-line、i-line、DUV（KrF、ArF、ArFi）、EUV。
ASML不能自由出货EUV光刻机，仅仅靠DUV光刻机维持业务。若这块业务也不能做了，可想而知ASML往后在中国大陆的市场状态。
也许有人说了，ASML不是还有更低端的g-line，i-line光刻机吗？DUV不能出货就卖更低端的设备，总能保留市场。就这种级别的光刻机，国产早就实现突破了，上海微电子作为国内唯一的整机装备光刻机厂商，拿下g-line，i-line光刻机市场不是什么问题。
半岛电视台报道说，中芯国际量产7纳米的消息一出，美国先是禁止用来开发3纳米以下芯片的EDA软体出口，上周又限制英伟达、超微等厂商向大陆出口高阶人工智能芯片，打击大陆芯片业的举动可说是一波又一波。
中芯在无法取得ASML的EUV极紫外光曝光机的状况下，靠着DUV深紫外光曝光机推进技术，引起市场震撼，台湾(专题)工研院产业科技国际策略发展所研究总监Ray Yang表示，“中芯可以使用DUV生产7纳米，甚至进行量产，但这无法让生产过程具有成本效益，将DUV机台的技术推向极限，如同以F1的速度驾驶一般汽车。”
Ray Yang补充说道，“在此状况下，产品良率将会非常低，因此并不是优化先进制程的解决方桉，要将技术从7纳米继续往前推进几乎是不可能的。”
台媒体称若大陆想要跨进7纳米以下的先进制程，会需要ASML独家生产的EUV机台，然而在美国制裁下，大陆厂商无法拿到此设备，因此希望透过国产机台的方式取得突破，但过程并不容易。
半导体产业分析机构SemiAnalysis分析师Dylan Patel表示，“中芯的工程师自爆国产机器出现很多问题，甚至接到许多投诉，大陆还有办法生产好的ArF曝光机（其中一款DUV机台）大陆用外国机器生产芯片落后多年，而国产设备上则落后数十年。”
事实上，7月也传出美国有意施压ASML禁止出售DUV设备至大陆，但目前并没有实质上的动作，ASML曾警告，如果美国迫使公司停止向大陆出售DUV设备，全球半导体供应链将面临中断，因为大陆是重要的参与者。
