华为秀EUV专利力拼ASML 外媒酸有专利就能做出来?
来源：倍可亲(backchina.com) 专题：华为最新动态！为了降低美国晶片禁令冲击，中企华为日前公开极紫外光（EUV）新技术专利，目的就是想宣称中国可以生产7奈米以下晶片，却惨遭外媒打脸，直言申请专利并不等于能够制造一台 EUV 曝光机，目前只有荷兰ASML取得成功。
华为11月向中国国家知识产权申请专利《反射镜、光刻装置及其控制方法》，这种方法能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行优化，进而达到匀光的目的。
对此，全球知名硬体网站《Tom's Hardware》称，EUV曝光机非常複杂，并非申请几项专利就能生出EUV。一台EUV曝光机有超过10万个先进零组件，也需要相关上下游产业链配合。即使有EUV，还需要测量台与曝光台、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版等等。
报导直言，很多公司都试图开发EUV，最后只有 ASML 经过10多年努力，并在台积电、英特尔及三星的资金支持下，取得成功。如今，台积电、三星、SK 海力士都使用 ASML 的 EUV。
此前，上海微电子也曾宣称，将在2021-2022年交付第一台28奈米制程的中国产曝光机，至今没人见过这台传说中的中国国产曝光机，原因就是上海微电子光有技术、缺乏上下游产业链提供相关零组件，根本行不通。
由于美国禁令限制，中国国内至今没有任何一台EUV，华为急于突围，展现半导体野心显而易见，问题是华为缺乏上下游产业链支持，什么时候才能做得出中国制EUV？
