中国芯片缺的远远不只光刻机
来源：倍可亲(backchina.com)美国颁布禁令迫使中国急欲寻求芯片产制自主，但专家分析，中国芯片产业不只缺光刻机还有人才，其他像是设备、材料、设计、封装、测试等领域，都需要更多有志者投入。
中国媒体腾讯科技30日报道，中国资深芯片研究专家汪波表示，一个典型的芯片技术，从实验室研发到走向市场大约需要10年甚至更久，技术突破固然重要，稳定性、可制造性、良率也值得关注。
他说，即使是西方盟友之间也不可能分享最核心的芯片技术，只能通过自主研发，欧洲和日本(专题)的发展就是其中的例子。
而谈到当前中国自主研发芯片面临的瓶颈，汪波分析，中国不只缺高端光刻机以及相应的半导体材料，还急缺电子设计自动化（EDA）软体。
他说：“没有高端的EUV（极紫外光）光刻机，我们只是造不出最先进的芯片（芯片），而没有了EDA设计软件，所有的芯片设计公司都要停工。”
汪波表示，荷兰半导体生产设备制造商艾司摩尔（ASML）经过多次延迟，最终克服难以想像的困难，2018年制成人类史上最精密的光刻机，每台成本高达2亿美元。
他说，为打造EUV光刻机，艾司摩尔需要向全球数百家供应商采购零组件，而这些供应商又分佈在荷兰、德国、日本、美国等世界各地，经通力合作才有了今天的EUV光刻机。
汪波表示，当然中国最缺的是人才，例如，EDA行业需要复合型的专才，既要懂写程式和计算、又要懂半导体装置或电路等，培养起来难且慢。
他说，此外，在芯片制造、设备、材料、设计、封装和测试等领域，都需要更多有志于面对挑战的人投入。
汪波指出，自主和全球化并行不悖，但芯片产品可藉由全球化取得，但不可能藉由全球化获得芯片核心技术。
他说，当前国际情势和趋势依然影响著芯片技术的发展，例如受到科技脱钩影响，中国从国外引进芯片技术的途径受到限制以致业界感到阵痛，但如此也有助于下决心，以建立自主的完整研发生产链。
