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光刻机“大变局”!中国又迎来一重磅级选手

京港台:2020-9-18 13:26| 来源:金十数据 | 评论( 65 )  | 我来说几句


光刻机“大变局”!中国又迎来一重磅级选手

来源:倍可亲(backchina.com)

  在“国家队”宣布进场之后,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)也准备加快步伐,以打开中国市场。周四(9月17日)最新消息显示,ASML全球副总裁沈波表示,作为全球半导体行业的合作伙伴,ASML将加快在中国市场的布局。

  

  沈波表示,该公司将用领先的光刻技术,帮助芯片制造商提升性能并降低成本。他还指出,作为一家非常开放的公司ASML未来将持续投入、扩大布局、培养人才,并与行业的伙伴联手,同中国半导体产业实现共同发展。目前,该公司在华已有12个办公室,在北京和深圳拥有2个研发中心。

  据悉,作为芯片生产最核心的设备,光刻机目前仍是我国芯片生产最大的制约因素。资料显示,7nm以上的芯片工艺,用DUV光刻机就可以生产,7nm以下的工艺,则需要用EUV(引入极紫外光)光刻技术,而ASML则是目前全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业。

  

  关键时刻,为什么ASML要加速布局中国市场呢?要知道,光刻环节在芯片成本中占比高达30%,因此,ASML决定加速入局全球最大芯片消费市场——中国,并非没有原因。

  而作为光刻机领域重磅级“选手”,ASML加速在华布局,对于中国光刻机的发展,可能也将带来促进作用。事实上,中国也有光刻机,但是技术与ASML的差距仍比较大。虽然2018年底国内在22nm光刻机的光源上取得了突破,但是要想比肩ASML,可能还有很长的路要走。

  

  不过,本周三(9月16日)中国科学院院长白春礼表示,该院将把光刻机、航空轮胎和轴承钢等对外依赖较大的关键材料或设备列入科研清单,未来将集中力量攻克这些重点技术。在“国家队”和ASML先后跑步进场的情况下,国产光刻机能否尽快迎来“高光时刻”呢?我们拭目以待。

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